清潔表面是真空技術中的先決條件。必須去除表面上的所有雜質，以使其在真空條件下不解吸、不產生氣體負荷或沉積在部件上。

*初的預處理是必需的，例如，用高壓清洗器，以去除粗污垢。隨后，將在多腔室超聲波中清洗部件。**清潔是在超聲波條件下使用特殊的清潔劑進行，對表面進行清潔和脫脂。污物沾有表面上的表面活性劑，并粘著在清洗液中。清洗液的pH值必須調整到適合于腔室材料的范圍。在其他清洗液中，清潔劑通過預沖洗、然后用熱去離子水徹底沖洗才能完全去除。在這之后，必須在高溫、無塵、無烴空氣中快速完成干燥。大型腔室使用蒸汽或高壓清洗器與特殊的清洗劑進行清洗。然后，必須使用熱的去離子水再次清洗數次，*后在高溫空氣中進行快速干燥。

清潔后，真空側表面必須只能佩戴清潔、不起毛的手套觸摸。所用包裝為PE塑料薄膜，且密封面和刀刃輪廓用PE帽保護。

已清潔部件表面仍然有出氣源。在UHV下，明確吸附的水分子和貯存在空氣中的烴痕是殘余氣體的*大來源。為有效地去除表面的這些物質，對UHV腔室進行加熱。在壓力小于1·10-6hPa的連續排空下，部件通常加熱到150°C至300°C約48小時。

通過物理吸附或化學吸附粘著在表面的外來原子通過這些過程獲得熱能量，它們憑借這些熱量可溶解粘著物并將其從表面釋放。從表面釋放的分子必須通過真空泵從系統中去除。在冷卻后，獲得的*終壓力已經下降了幾個量級。如果腔室被排空，表面會再次附著分子。使用干燥氮氣作為溢出氣體并簡短暴露于大氣中并不能完全防止表面上形成水組織，只能減少它。為在容許的抽空時間內達到*終壓力，小于1·10-8hPa，再次烘烤是不可避免的。